iyon kaplama işlemlerinin bir versiyonudur iyon kaplama substrat yüzeyinin periyodik bombardımanı ile atomik boyutta

İyon kaplama, işlemlerinin bir versiyonudur. İyon kaplama, substrat yüzeyinin periyodik bombardımanı ile, atomik boyuttaki partiküllerin yüzeyde biriktirilmesi ile gerçekleştirilir. Vakum iyon kaplama, reaktif iyon kaplama, kimyasal iyon kaplama gibi çeşitli teknikleri bulunur.

Kullanım biçimi

İyon kaplama, saçtırma işlemindeki gibi, soy gaz deşarj sistemleri ile kullanılabilir. Bu yöntemde substrat yüzeyinin şekillenmesi için substrat öncelikle inert gaz bombardımanına maruz bırakılır. Film katmanlama işlemi, iyon bombardımanına ara verilmeksizin devam eder. Filmin oluşturulması için, katmanlama oranının, saçtırma oranından fazla olması şartı vardır. İyon kaplama, genellikle yüzey ile film arasında yüksek bir istenilen durumlarda uygulanır.

Faydaları

İyon kaplama işleminin, adezyon bakımından avantajları şu şekilde açıklanabilir.

Film oluşturulana kadar substrat yüzeyinin oluşturulması iyi bir adezyon sağlar
Yüksek hata konsantrasyonu verilmesi ile, yüzey ve arayüzey yapısından sonra film ve substrat malzemesinin fiziksel olarak bağlanması
Sadece yüzeyde oluşan yüksek sıcaklık ile substrat yüzeyine doğru yüksek enerji akışını sağlayabildiği için, kütlenin ısıtılmasına gerek kalmadan kimyasal reaksiyonların ve difüzyonun oluşabilmesi bir avantajdır.

Büyüyen filmin iyon bombardımanı, biriktirilen filmin morfolojisinde, iç gerilimde ya da diğer fiziksel ve elektriksel özelliklerde değişikliklere sebep olabilir.

İyon Bombardımanı Teknikleri

İyon Tabancası (Vakumlu ortamda)
Gaz Deşarjı

Kaynakça

^ Lampert, Dr. Carl (3 January 2013). "Vacuum Deposition and Coating Options". pfonline.com (İngilizce). Gardner Business Media. 16 July 2017 tarihinde kaynağından . Erişim tarihi: 10 October 2019. Ion plating uses energetic ion bombardment during deposition to densify the deposit and control properties of the coating such as stress and microstructure.
^ Bach, Hans; Krause, Dieter, (Ed.) (10 July 2003). Thin Films on Glass (Schott Series on Glass and Glass Ceramics). Schott Series on Glass and Glass Ceramics (İngilizce). . doi:10.1007/978-3-662-03475-0. ISBN . LCCN 97029134. OCLC 751529805. OL 682447M. 3 June 2021 tarihinde kaynağından . Erişim tarihi: 10 October 2019.

Ayrıca bakınız

Malzeme ile ilgili bu madde seviyesindedir. Madde içeriğini genişleterek Vikipedi'ye katkı sağlayabilirsiniz.

[Lampert-1] Lampert, Dr. Carl (3 January 2013). "Vacuum Deposition and Coating Options". pfonline.com (İngilizce). Gardner Business Media. 16 July 2017 tarihinde kaynağından . Erişim tarihi: 10 October 2019. Ion plating uses energetic ion bombardment during deposition to densify the deposit and control properties of the coating such as stress and microstructure.

[2] Bach, Hans; Krause, Dieter, (Ed.) (10 July 2003). Thin Films on Glass (Schott Series on Glass and Glass Ceramics). Schott Series on Glass and Glass Ceramics (İngilizce). . doi:10.1007/978-3-662-03475-0. ISBN . LCCN 97029134. OCLC 751529805. OL 682447M. 3 June 2021 tarihinde kaynağından . Erişim tarihi: 10 October 2019.